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銅靶材鍍膜濺射儀

產(chǎn)品簡介

以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時,不可避免地會引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當硫元素含量高于18 ppm時,會出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛),銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD為臺式磁控濺射鍍膜機,儀器結構緊湊,全自動控制,設計符合人體工程學,所得結果一致,可重復性高。

產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
更新時間:2024-03-29
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:4010
詳細介紹在線留言
品牌鄭科探濺射氣體根據(jù)需求氣體
樣品臺尺寸φ50mm控制方式觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
靶材材質(zhì)金 鉑 銅 銀價格區(qū)間1-5萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域化工,電子

銅靶材Cu target 鄭科探小型磁控濺射靶材鍍膜銅膜料顆粒銅

以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時,不可避免地會引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當硫元素含量高于18 ppm,會出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛)含量的增加,靶材裂紋的數(shù)量和電弧放電的數(shù)量會增加.因此,應盡可能降低靶材中的雜質(zhì)含量,以提高薄膜的均勻性。

 

銅靶材.jpeg
高純度銅靶材

 

銅靶材鍍膜濺射儀

 

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應用領域:

離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現(xiàn)不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應技術參數(shù);

 

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口




 

 

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